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| 低溫酸化緩蝕劑 | 不銹鋼的腐蝕研究及緩蝕劑應用 眾所周知,不銹鋼在電解質溶液中,表面因形成鈍化膜,具有良好的耐蝕性能鈍化膜成分以鐵的氧化物和鉻的氧化物為主,鈍化膜中鐵的化學狀態隨深度的不同而變化。李金波等利用電化學極化曲線、X射線光電子能譜(XPS)研究了304L不銹鋼在碳酸氫鈉溶液中的形成的表面鈍化膜的半導體特性,發現電位在小于-0.4V的條件下,鈍化膜呈p型半導體特性,電位在-0.4V~0.26V之間時,鈍化膜表現為n型半導體特性,且鈍化膜主要由內層的鉻的氧化物(Cr2O3)和外層的鐵的氧化物(FeO和Fe2O3)構成。李瑛等利用同步輻射光電子能譜(SR-XPS)原位研究了氧離子濺射304不銹鋼中的鐵、鎳、鉻合金元素與氧離子的化學反應活性差異,發現不銹鋼合金元素中,鉻元素與氧離子的化合能力最強,鐵元素次之,鎳元素的化合能力最弱。胡鋼等研究了304不銹鋼在閉塞溶液中鈍化膜的組成,發現Cl-作用于鈍化膜的表面,使其部分形成可溶性的化合物,從而使鈍化膜的完整性受到破壞,從而改變鈍化膜的組合和結構性能。陳長風等通過測量鈍化膜的空間電荷電容,來研究鈍化膜的半導體性質,雙極性半導體的鈍化膜的M-S曲線斜率在耗盡態電位區會發生變化。王超等利用電位-電容測試盒M-S曲線分析了304不銹鋼的鈍化膜在電解質溶液中的半導體特性,還發現了在堿性環境中,鈍化膜的腐蝕來自于富鉻層導電能力的增強,而在酸性和中性介質中,鈍化膜的腐蝕則來自于富鐵層導電能力的增強。蔡松崎等提出了四種關于鐵在水溶液中形成鈍化膜的結構模型。Dezhkunov等認為高溫下不銹鋼成膜時不同類型的半導體特征與鈍化膜內外層電子層的結構有關。
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